随着设备的不断抽真空，刻蚀机光刻机区别真空室中的真空度越来越大，分子之间的距离越来越大，分子间的相互作用力越来越小。使用等离子体清洗设备的等离子发生器产生高压交变电场将Ar, H2 O2、N2,和CF4气体,使其有高反应活性或高能等离子体,从而与有机污染物和微粒子表面的半导体器件,产生挥发性物质,泵
