由于大型等离子体清洗器蚀刻的金属硬掩模图形将作为沟槽蚀刻的掩模层，内聚力和附着力的相同之处蚀刻后的金属硬掩模层的图形完整性和关键尺寸将再次转移到（超）低介电常数材料上，并通过沟槽蚀刻形成金属连接。金属硬掩模层蚀刻图形对设计图形传输的保真度以及蚀刻后关键尺寸偏差的负载效应将被后续沟槽蚀刻继承，甚至这些
