超低温蚀刻工艺在这个过程中，光滑金属表面增强附着力硅晶片或图案化的硅衬底被冷却到大约 -°C 并用 SF6 / O2 等离子体进行蚀刻。一些无机副产物，包括 SiOxFy，仍然被吸附在图案的侧壁上形成保护层。当反应加热到室温时，这些副产物在离子冲击条件下被解吸。因此，等离子表面处理机的蚀刻完成后，图
