等离子蚀刻机的表面处理主要包括各种蚀刻、除灰、除尘等工艺。其他等离子体处理包括去污、表面粗糙度、增加水分、增强结合和结合强度、光阻剂/聚合物剥离、介质腐蚀、晶圆凸起、有机物去除和晶圆剥离。等离子蚀刻机——在擦拭等离子板之前，介质中亲水性物质等离子板会去除污染物、有机污染物、氟、金属和金属氧化物等卤素
