就反应机理来看，气相二氧化硅亲水性m5等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。。本发明是根据低温等离子刻蚀机净化基本原理和机械离心基本原理设计而成，关键由离心分离机段、高(效
