通过配置刻蚀组件，二氧化硅清洁等离子清洗机可以实现刻蚀功能，性价比高，操作简单，从而实现多功能。半导体通过等离子体蚀刻机过程将模式复制到多晶硅和其他基质膜的结构,以形成一个晶体管门电路,同时与铝或铜组件实现互连,或与二氧化硅阻止互连路径。蚀刻的作用是将印刷的图案以极高的精度转移到基片上，因此蚀刻过程
