典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，亲水性和疏水性指标容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳、水等挥发性物质，从而去除表面污染物。基于物理反应的等离子体清洗，也称为溅射蚀刻(SPE)或离子研磨(IM)，其优点是本身不发生化学反应，清洗表面不留氧化物，可保持
