锗作为新一代半导体材料，pmma亲水性如何极有可能在集成电路制造行业中得到应用。在半导体工业规划中，锗也被用作集成电路PMOS管的材料。无缺陷的大面积锗或锗合金薄膜是集成电路制造的主要障碍。对于锗蚀刻，常用的蚀刻方法有两种。一种是氯基蚀刻，它更容易实现，而且不引入电变化。它的缺点是很难控制整体的形式
