它在电子工业、化工、光学等方面有着广泛的应用。硅化合物的电晕沉积。以SiH4+N2O（或Si(OC2H4)+O2)为原料制备SiOxHy。气压为1～5托（1托≈133Pa)，ixpe泡棉电晕机电源为13.5MHz。SiH4+SiH3+N2用于氮化硅的沉积。在300℃下，沉积速率约为180A/min。
