这样可以独立控制等离子体密度和离子脱壳能。因此，icp刻蚀机原理ICP刻蚀机提供了更多的控制技术。图8两种方法的ICP结构等离子体刻蚀所用的ICP源通常是平面结构。该方法易于获得可调的等离子体密度和等离子体均匀性分布。此外，用于平面ICP源的介质窗也易于制作。石英和陶瓷是常用的介电窗口材料。此外，电
