等离子清洗设备的清洗原理：等离子处理过程中有两种清洗过程：化学反应和物理反应。化学过程 在化学等离子体过程中，cobplasma表面处理设备自由基分子与待清洁物体表面的元素发生化学反应。这些反应的产物是非常小的挥发性分子，可以用真空泵抽出。对于有机清洁应用，主要的副产品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳
