等离子体刻蚀厂商介绍锗在集成电路中的潜在应用及其刻蚀方法（下）：锗作为新一代半导体材料，PMMA材料亲水性极有可能用于集成电路制造业。此外，半导体产业规划中也将锗作为未来集成电路中PMOS晶体管的材料。利用锗加工集成电路，其无缺陷的大面积锗或锗合金膜是工业道路上的一大障碍。锗蚀刻有两种常见的蚀刻方法
