还可选择性地清洗材料的整体、局部或复杂结构；等离子体清洗所要操作的真空值约为Pa,这种清洗条件非常容易达到。因此此类装置的机器设备生产成本不高，附着力3Mpa是是几级且清洗工艺无需使用极其昂贵的有机溶液，导致整体生产成本低于传统湿法清洗工艺；在顺利完成清洗去污的同时，还可以提高材料本身的表层性能。如
