幸运的是，附着力好不好怎么看很多等离子刻蚀设备厂商已经注意到在刻蚀过程中需要保护非刻蚀区域或特定功能层，很多厂商已经推出或即将推出此类机型，以满足14nm以下节点的刻蚀需求。与目前主流的蚀刻工艺一样，蚀刻温度是另一个重要参数。有趣的是，石墨的刻蚀速率不随温度线性变化，但在450℃处有一个峰值；左右。
