随着工艺节点的不断减少，附着力促进树脂厂家单片晶圆清洗设备是当前可预见技术下未来清洗设备的主流。适用于等离子原料和半成品的每一步都可以进行可以对存在的杂质进行清洗，避免杂质影响产品质量和下游产品性能，等离子体清洗设备适用于单晶硅生产、光刻、蚀刻、沉积等关键工艺以及封装工艺的使用。铜引线框经等离子清洗
