这种高偏置脉冲技术(US9059116)目前在半导体公司的高端Kiyo系列中可用。与同步脉冲相比，附着力促进剂P_105等离子清洗器停等离子体过程中粒子能量角(IEAD)分布与同步脉冲相似，从而减少了电荷积聚。嵌入的脉冲通常是源功率和偏置功率同时脉冲，但偏置功率上电的时间比源功率的时间短，从而降低等
