等离子体干法蚀刻机厂家镓砷的蚀刻： 除了铟镓砷，附着力促进剂厂家镓砷也是大家广泛期待的半导体材料，而两者也往往一起使用来构建高性 能器件。因此我们有必要探讨和展望这类半导体的蚀刻技术。利用Cl2和BCl3混合气体对镓砷半导体材料的深孔蚀刻，蚀刻速率为6~8um/min，光阻作为掩膜材料，选择比为8∶
