CF4（四氟化碳）是目前微电子工业中最大的电晕刻蚀气体。电晕刻蚀通常称为刻蚀、咬蚀、凹蚀等，薄膜电晕处理检测方法可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃、钨等薄膜材料中，生成其他CO、CO2、H2O等气体，从而达到刻蚀的目的。还广泛应用于电子器件表面清洗、太阳能电池生产和印制电路生产中的洗涤剂。P
