表 3.8 各种碳氟比条件对介质层和硅的影响蚀刻率、选择性蚀刻率/(NM/MIN>SELECTIVITYUNIFORMITY/%)SI3N4SIO2SISI3N4/SIO2SI3N4/SISI3N4SIO2SICH3F261226131.51.10.42CH2F2281681.13.50.430.3
例如，如何增加颜料附着力氧等离子体具有高度氧化性，可以氧化并与照片发生反应。产生气体达到清洗的效果； 腐蚀性气体的等离子体 具有良好的各向异性，可以满足蚀刻的需要。等离子处理之所以称为辉光放电处理，是因为它会发出辉光。由于等离子清洗机发出的等离子是气态的，它可以清洗各种形状的物体，如表面粗糙度、曲率
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