Cl2/SCCMn：/SCCMAR/SCCM蚀刻速率/(μm/min)SelectivitInP:SiO2均方根/纳米150101.11328.7：1>2525370.49311.5；118.2235550.40713.0：115.8845730.3229.35：11.0758350.76817.0
