可以实现点胶前用等离子发生器进行清洗：等离子体发生器应用于半导体硅片清洗工艺具有工艺简单、操作方便、无废物处理和环境污染等优点。但碳等非挥发性金属材料或金属氧化物杂质难以去除。等离子发生器清洗在光刻技术的去除过程中是常见的。等离子体反应体系中注入少许氧气，硅片亲水性不好什么原因在强电场作用下，氧气形
