但193nm光刻胶的化学成分与248nm光刻胶有很大不同，电池极片等离子体表面清洗机器在恶劣的等离子环境下其抗蚀刻性较差。减少需要用于保护曝光工艺窗口的 193nm 光刻胶的厚度。在这种情况下，控制栅极图案尺寸如特征尺寸、线宽均匀性、侧壁角度、侧壁形状（凹痕、突起）、线宽粗糙度都是需要严格控制的工艺
