此外，电晕处理机f6还有报道称在许多低温电晕刻蚀工艺中，电晕表面处理器的离子轰击是决定因素，这主要是因为降低反应温度可以有效减缓表面化学反应。电晕表面处理器低温反应中用SF6/O2连续电晕刻蚀硅衬底的工艺称为标准超低温工艺，以实现刻蚀与保护并行。保护层的大分子膜主要含有硅氧无机化合物。工作原理如下：
