C2H4和CH4产率随电晕注入功率的增加而增加不明显，电晕处理会改变材料表面效果吗这可能与C2H4和CH4是反应的主要反应产物以及C2H2具有较高的稳定性有关。表3-1 C-C和C-H化学键的离解能化学键离解能/(kJ/mol)离解能/(ev/mol)CH3&mdash；CH3367.83。8C2H
