由于低温等离子体处理设备是干式试验清洗工艺，uv墨附着力提高处理后的材料可以立即进入下一道工序，等离子体清洗工艺稳定、（效率）高。由于等离子体的高能量，可以分解材料表面的化学物质或有机污染物，有效去除附着的所有杂质，使材料表面满足下一步涂层工艺的要求。本发明采用低温等离子体处理设备技术对表面进行清洗
不同的处理材料、工艺要求和容量要求，电晕处理对附着力提高促进电极结构的设计不同；蒸气的流动方向会形成气场，影响电晕运动、反作用和均匀性都会产生影响；物品的放置会影响电场和气场的特性，导致能量分布不平衡，局部电晕密度过大，烧毁极板。除上述因素外，现已证明电晕刻蚀机的加工时间、工频、载流子类型等也对加工