了解等离子蚀刻的文章1.等离子体：一种广泛使用的复杂物理过程等离子蚀刻参与集成电路的开发已有 40 多年的历史。 1980年代成为集成领域成熟的蚀刻技术。电路。蚀刻常用的等离子体源包括电容耦合等离子体（CCP电容耦合等离子体）、电感耦合等离子体（ICP）和微波电子回旋共振等离子体（microwave
