经过我国科研人员的不懈努力，涂层附着力不足原因终于在刻蚀方面取得了技术突破，让芯片技术不再卡在我们的脖子上。下面这台等离子刻蚀机是我们自己研制的等离子刻蚀机（等离子处理器）。等离子体处理设备主要包括预真空室、刻蚀室、送风系统和真空系统。等离子体处理设备的工作原理是化学过程和物理过程相互作用的结果。等
