对高k薄膜的工艺研究也逐步从沉积时优化向兼具沉积后处理的工艺方向拓展。高k薄膜沉积后处理工艺中，氧离子亲水性强弱判断依据除了传统的热处理方式，等离子处理机等离子处理等具有低温特征的工艺正得到越来越广泛的重视。等离子功率提高是薄膜漏电流降低的因素之一，另一个需要关注的因素是氧气流量。薄膜的沉积后处理效
