真空等离子体设备仅涉及复合材料(10- 1000a)的浅层表面，湿法刻蚀工艺中,氧化硅在保持材料自身特性的同时，可赋予一种或多种新功能;真空等离子设备结构简单，操作维护方便，可以连续运行，经常几瓶蒸汽就可以代替1000kg以上的清洗液体，所以清洗成本将大大低于湿法清洗。真空等离子体设备全过程可控:所
