等离子体表面刻蚀；1.分类硅胶等离子体表面处理设备的刻蚀功能可分为物理刻蚀和化学刻蚀，粗糙度与达因值物理刻蚀是基于物理溅射原理，通过引入惰性气体，冲击材料表面，从而达到表面的微粗化或粗糙化。金属材料的表面蚀刻一般采用物理蚀刻，化学蚀刻一般采用化学蚀刻。2.功能等离子体表面刻蚀可用于对材料表面进行凹形
