等离子体刻蚀机在处理晶圆表面光刻胶时，晶圆等离子体表面清洗等离子体刻蚀机清洗可以去除表面光刻胶等有机化合物，还可以根据等离子体的活化和粗化功能对晶圆表面层进行处理，可以合理有效地增强其表面穿透力。与传统的湿化学法相比，等离子体清洗设备干法试验处理具有更强的机动性和更好的统一性，对基材没有伤害。等离子
