多晶硅栅图形作为控制沟道长度的重要工艺，抗蚀刻油墨的附着力是什么与器件性能密切相关，影响着全身。摩尔定律将黄光图案化技术从 248 nm 波长的光源工艺推广到 193 nm 波长的光源工艺。这一转变在 2012 年取得了成功，图形分辨率为 30 nm。但193nm光刻胶的化学成分与248nm光刻胶有
