在微电子工业中，影响达因值因素清洁是一个普遍的概念，它包括了所有与污染物清除相关的过程。一般是指在不破坏数据表面特性和电特性的前提下，有效地清除数据表面残余的尘埃、金属离子和有机物杂质。现阶段普遍采取的物理学清洗方式，大概可以分成2种：湿法清洗和plasma干法清洗。现阶段，湿洗仍占微电子清洗工艺的
