氧化物和大多数高分子材料（如：pp聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧树脂，基材润湿剂增加附着力甚至聚四氟乙烯等）不存在极性，这类相关材料在印刷中存在。粘合。涂布前应完成对基材的良好处理，才能完成对整体、局部和复杂结构的清洗。其次，利用等离子等离子清洗机对塑料材料进行表面处理。在高速高能轰击下，相
直接等离子体的侵蚀较少，三聚氰胺基材附着力增强剂但工件暴露在辐射区。下游等离子体是一种较弱的工艺，适用于去除 10-50 埃的薄层。射线区或等离子体会损坏工件。目前，没有证据表明这种担忧。这似乎只有在重复出现的高射线区域中的处理时间延长到 60-120 时才会发生。在正常情况下，这些条件仅适用于大片
在半导体硅片（WAFER）IC芯片制造领域，等离子表面活化剂视频等离子加工技术已经成为芯片源离子注入、晶圆镀膜或我们低温等离子表面不可替代的成熟工艺。成果：去除晶圆表面的氧化物、有机物、掩膜等超细化处理和表面活化，提高晶圆表面的润湿性。。LCD 显示屏玻璃 在当前显示屏制造工艺的最后阶段，显示屏表面
这是执行等离子清洗时的常见目的。低温等离子表面改性技术设备实际上改变了材料表面的几层单分子膜，连接器去胶在表面留下自由基并与粘合剂或油墨结合。这在粘合不同的表面（例如塑料或金属）时特别有用。不同的表面有不同的粘合剂。这使得很难找到合适的胶水。使用等离子体修饰表面并寻找在塑料或橡胶表面留下额外电子的连
CH4 + e * —> CH3 + H + e (3-1) CH3 + e * —> CH2 + H + e (3-2) CH2 + e * —> CH + H + e(3-3) CH + e * —> C + H + e (3-4) CH4 + e * —> CH2 + 2H (H2) + e
与La2O3/Y-Al2O3催化剂不同，cea附着力促进剂定做Nd2O3/Y-Al2O3催化剂倾向于吸附含氧自由基。易被表面含氧自由基氧化生成CO。值得注意的是CeO2/Y-Al2O3和等离子等离子体在CO2氧化CH4为C2烃的反应中表现出更好的催化活性。这类似于甲烷催化氧化中的 CeO2 / Y-
工件表面的油脂、助焊剂、感光膜、脱模剂、冲头油等污垢迅速氧化成CO2和H2O，低温等离子清洗机维修由真空泵抽出。清洁表面并提高润湿性和附着力。目的。低温等离子处理设备只包含座椅表面，不影响座椅本体的特性。由于低温等离子处理设备是在高真空下清洗的，所以等离子中各种活性离子的自由度极长，渗透率高，结构复
在氯气中加入BCl3和He对氮化钛剖面形状的影响可以看出，涂膜附着力画圈法虽然添加He可以带来更高的光阻选择比，但氮化钛蚀刻表面明显比添加BCl3.3倾斜。通常，在等离子体清洗机和其他干式蚀刻完成后，引入一个酸性或碱性湿式清洗步骤，以完全去除等离子体蚀刻在晶圆上形成的副产物，避免二次反应。冷等离子体
真空等离子清洗设备可用于提高材料的粘合性能和光学元件、光纤、生物医学材料、航空航天材料等的粘合性能。还可应用于玻璃、塑料、陶瓷和聚合物等材料的表面改性和（活化），涂层附着力和什么有关以提高表面附着力、润湿性、相容性，显着提高涂层质量。..可用于牙科领域，钛种植体的表面预处理，硅胶压塑材料的表面处理，
等离子表面处理设备处理的污染物通常是看不见的，塑料的亲水性有哪些特点属于纳米级别。这种污染会影响物体与其它物质相互作用的能力，例如胶水或油墨。利用等离子体对物体表面进行处理，可以去除有机物。等离子表面处理设备可提高粘结或焊料的粘结强度，提高印刷的可靠性。这种加工方法适用于光亮的塑料和橡胶，清除杂质后