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射频等离子体清洗碳膜(射频等离子清洗机洗硅片)

射频等离子体清洗碳膜(射频等离子清洗机洗硅片)

化学等离子清洗工艺产生的等离子与工件表面发生化学反应,射频等离子体清洗碳膜因此离子数量越大,清洗能力越高。因此,需要使用更高的腔室压力。射频功率射频功率的大小影响等离子的清洗效果,进而影响封装的可靠性。增加等离子体射频功率会增加等离子体的离子能量并提高清洁强度。离子能量是活性反应离子进行物理工作的能