Lee等研究发现，对tpu附着力促进剂门状形态对TDDB也有影响，脚突出的门状形态比笔状更好TDDB栅极氧化层的性能很差的网格或凹网格,因为离子会通过大门进入栅氧化层伸出脚高能离子注入过程中等离子体的等离子体设备清洁,导致氧化层的破坏。这些精细线路电子产品的生产与组装，对tpu的附着力对TO玻璃的表
