等离子清洗设备是一种通过化学和物理作用从分子层（通常为 3 至 30 nm 厚）去除污染物来提高工件表面活性的技术。 ..去除的污染物可以是有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、颗粒污染物等。等离子清洗设备可以根据污染的类型使用不同的清洗方法。 1.等离子清洗设备灰化面层有机层污染物在真空泵和瞬间高温下
