Kanashima 薄膜的表面污染通过氧等离子体清洗去除，叶面肥附着力光谱测试表明 Kanashima 薄膜的表面增强性能在清洗前后没有明显变化。氧等离子清洗机可以去除真空沉积形成的金岛膜表面的大部分非晶碳杂质。清洁的基板可以更好地保留针对其他分子的 SERS 活性。清洁后 SERS 信号衰减较小。
