影响等离子体清洗效果的因素很多，刻蚀铜电路板方程式包括化学性质、工艺参数、功率、时间、零件放置和电极结构的选择。不同清洗目的所需的设备结构、电极连接及反应气体种类不同。过程原理也有很大差异，有的是物理反应，有的是化学反应，有的既是物理作用又是化学作用。反应的有效性取决于等离子体气源、等离子体系统和等
