1、化学cleaningCommonly用于化学清洗气体H2 O2和CF4等,这些气体等离子体的电离形成高活性自由基在体内和污染物的化学反应,自由基反应机理的等离子体主要是用于制造与材料表面的化学反应,让非易失性(机)是一种波动形式,与高速化学清洗,选择性好,但它可能是在清洗的过程中清洗表面产生氧化
