等离子清洗1蚀刻工艺的应用在某种程度上，引入基团对亲水性的影响等离子清洗本质上是等离子蚀刻的一个温和案例。用于执行干法蚀刻工艺的设备包括反应室、电源和真空部分。工件被送入反应室用真空泵抽真空，气体被引入并与等离子体交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀过程实际
