刷头也采用旋转喷涂方式，亲水性测试红墨水但配合机械擦拭，有高压、软喷涂等多种调节方式，适用于去离子水清洗工艺，包括锯片、磨片、磨片、抛光、研磨、CVD等工艺，尤其在晶圆抛光后的清洗过程中发挥了重要作用。低温等离子体清洗和单晶圆自动清洗台在应用上没有很大差异，主要区别是清洗方法和精度更高，以45nm为
