在直径2mm范围内,亲水性材料的润湿角()CF()/He作为放电气体,射频功率70W,在硅片上获得了5nm/s的刻蚀速率。该器件可以被认为是N-TECAPPJ中使用的器件的前身。由于平均消耗的功率很小,产生的等离子体射流对环境和被处理材料表面的热效应很小,可以称之为“冷等离子体射流”。射频和高频放电