置于腔室中的基板表面一般具有羟基或氢端反应活性位点，亲水性大小怎样判断基板表面铜前驱体的饱和化学吸附量如下。活动站点的内容和密度密切相关。按沉积周期数基板表面粗糙度的缓慢增加表明在实验开始时基板表面发生了沉积，并且在初始生长阶段没有生长延迟，但铜在10个周期内沉积，它是不连续的。电影。在薄膜生长的早
