等离子体处理过程包括化学反应和物理反应。化学过程:在化学等离子体过程中，二氧化硅粉末提高附着力自由基与被清洗物体表面的元素发生化学反应的反应。这些反应的产物是非常小的、易挥发的分子，可以用真空泵泵出。在有机清洁应用中，主要的副产品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化学反应的等离子体清洗，清洗速度快
