等离子蚀刻机主要利用射频等离子源(也有微波离子源)刺激反应气体产生等气体离子对目标物体进行物理轰击，中微半导体3nm刻蚀机研究成功以达到清除指定物质的手段。由于反应强度要求较大，所以等离子蚀刻机基本上是利用射频等离子体产生的。同样，控制等离子体源的功率和其他相关参数可以降低反应强度，从而可以清洗常见
