更高的离子冲击能量进一步提高了光刻胶的蚀刻速率，增加附着力的溶剂但在非常低的温度下（低于-°C），光刻胶的蚀刻速率下降到可以忽略不计的程度，抵消了增加冲击能量的影响。对于低温刻蚀，一个很重要的优点是等离子表面处理机刻蚀后结构的侧壁粗糙度非常小。除了改善刻蚀各向异性来控制临界尺寸外，在本研究中，等离子
