传统的光刻胶去除方法成本高且湿法光刻胶去除效率低下，上海pcb等离子清洗机哪家好而工艺技术的不断重复更新导致越来越多的制造商选择等离子清洗和干法光刻胶去除。有机化学 必须浸泡在有机溶剂中，不需要干燥。脱胶过程易于控制，避免过多缺陷，提高产品良率。干法脱胶法也称为等离子表面处理机的等离子脱胶法，其基本
