这些裂变不是永久的，薄膜附着力产生的原因一旦用于形成等离子体的能量消失，各类粒子重新结合，形成原来的气体分子。 等离子体技术在本世纪六十年代起就开始应用于化学合成、薄膜制备、表面处理和精细化工等领域，在大规模或超大规模集成电路工艺干法化、低温化方面，在近年来也开发应用了等离子体聚合、等离子体蚀刻、等
