等离子体的“活性”成分包括：离子、电子、活性基团、激发核素（亚稳态）、光子等。真空等离子体清洗设备利用上述活性成分的性质，铝件附着力不合格能烤一下对样品表层进行清洗，从而达到清洗、改性和光刻的目的。下面小编来介绍一下真空等离子清洗设备的清洗原理。真空等离子体处理设备中的等离子体产物通常以三种状态（固
